基(ji)(ji)于白(bai)光(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)單峰(feng)值(zhi)(zhi)(zhi)波(bo)長移(yi)(yi)(yi)動的(de)(de)鍺(zang)膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)(du)測(ce)(ce)量(liang)(liang)方(fang)(fang)案(an)(an)研究：在(zai)對(dui)(dui)比研究目前常用(yong)的(de)(de)白(bai)光(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)(she)(she)(she)測(ce)(ce)量(liang)(liang)方(fang)(fang)案(an)(an)的(de)(de)基(ji)(ji)礎上，我們發現(xian)(xian)當(dang)兩干涉(she)(she)(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)束(shu)的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)程差(cha)非常小導(dao)致其干涉(she)(she)(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)只(zhi)有一個干涉(she)(she)(she)(she)(she)峰(feng)時，常用(yong)的(de)(de)基(ji)(ji)于兩相鄰干涉(she)(she)(she)(she)(she)峰(feng)間距的(de)(de)解調方(fang)(fang)案(an)(an)不(bu)再適用(yong)。為此，我們提出(chu)了(le)適用(yong)于極小光(guang)(guang)(guang)程差(cha)的(de)(de)基(ji)(ji)于干涉(she)(she)(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)單峰(feng)值(zhi)(zhi)(zhi)波(bo)長移(yi)(yi)(yi)動的(de)(de)測(ce)(ce)量(liang)(liang)方(fang)(fang)案(an)(an)。干涉(she)(she)(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)的(de)(de)峰(feng)值(zhi)(zhi)(zhi)波(bo)長會隨著光(guang)(guang)(guang)程差(cha)的(de)(de)增大出(chu)現(xian)(xian)周期性的(de)(de)紅移(yi)(yi)(yi)和(he)藍(lan)移(yi)(yi)(yi)，當(dang)光(guang)(guang)(guang)程差(cha)在(zai)較小范圍內變化時，峰(feng)值(zhi)(zhi)(zhi)波(bo)長的(de)(de)移(yi)(yi)(yi)動與光(guang)(guang)(guang)程差(cha)成正比。根據這一原理(li)，搭建了(le)光(guang)(guang)(guang)纖(xian)白(bai)光(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)(she)(she)(she)溫(wen)度(du)(du)傳感系統對(dui)(dui)這一測(ce)(ce)量(liang)(liang)解調方(fang)(fang)案(an)(an)進行驗證，得到了(le)光(guang)(guang)(guang)纖(xian)端面半導(dao)體鍺(zang)薄膜(mo)(mo)的(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)(du)。實(shi)驗結果(guo)顯(xian)示(shi)鍺(zang)膜(mo)(mo)的(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)(du)為，與臺(tai)階儀(yi)測(ce)(ce)量(liang)(liang)結果(guo)存在(zai)，這是因(yin)為薄膜(mo)(mo)表(biao)面本(ben)身(shen)并不(bu)光(guang)(guang)(guang)滑，臺(tai)階儀(yi)的(de)(de)測(ce)(ce)量(liang)(liang)結果(guo)只(zhi)能作為參考值(zhi)(zhi)(zhi)。鍺(zang)膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)(du)測(ce)(ce)量(liang)(liang)誤差(cha)主要來(lai)自(zi)光(guang)(guang)(guang)源(yuan)的(de)(de)波(bo)長漂移(yi)(yi)(yi)和(he)溫(wen)度(du)(du)控制(zhi)誤差(cha)。白(bai)光(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)(she)(she)(she)膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)測(ce)(ce)量(liang)(liang)技術可以實(shi)現(xian)(xian)對(dui)(dui)薄膜(mo)(mo)的(de)(de)在(zai)線檢測(ce)(ce)和(he)控制(zhi)。高精度(du)(du)膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)儀(yi)銷售價(jia)格

開展白光(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)(she)(she)理(li)論分析(xi)，在此基礎詳(xiang)細介紹了(le)(le)白光(guang)(guang)(guang)垂(chui)直掃描(miao)干(gan)涉(she)(she)(she)技(ji)(ji)術和(he)(he)白光(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)技(ji)(ji)術的基本原理(li)，完成了(le)(le)應用(yong)于靶(ba)(ba)丸(wan)殼(ke)(ke)(ke)(ke)層(ceng)(ceng)(ceng)折射(she)率和(he)(he)厚(hou)度(du)分布測(ce)量(liang)實(shi)(shi)驗裝置的設計(ji)及搭建。該實(shi)(shi)驗裝置主(zhu)要由白光(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)探測(ce)模(mo)塊、靶(ba)(ba)丸(wan)吸(xi)附轉位模(mo)塊、三維(wei)運(yun)動模(mo)塊、氣浮隔震(zhen)平(ping)臺等(deng)幾(ji)部分組成，可實(shi)(shi)現靶(ba)(ba)丸(wan)的負壓吸(xi)附、靶(ba)(ba)丸(wan)位置的精(jing)密(mi)調整以及靶(ba)(ba)丸(wan)360°范圍的旋轉及特定(ding)角(jiao)度(du)下靶(ba)(ba)丸(wan)殼(ke)(ke)(ke)(ke)層(ceng)(ceng)(ceng)白光(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)的測(ce)量(liang)。基于白光(guang)(guang)(guang)垂(chui)直掃描(miao)干(gan)涉(she)(she)(she)和(he)(he)白光(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)的基本原理(li),建立了(le)(le)二者(zhe)聯(lian)用(yong)的靶(ba)(ba)丸(wan)殼(ke)(ke)(ke)(ke)層(ceng)(ceng)(ceng)折射(she)率測(ce)量(liang)方(fang)法，該方(fang)法利(li)用(yong)白光(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)測(ce)量(liang)靶(ba)(ba)丸(wan)殼(ke)(ke)(ke)(ke)層(ceng)(ceng)(ceng)光(guang)(guang)(guang)學厚(hou)度(du)，利(li)用(yong)白光(guang)(guang)(guang)垂(chui)直掃描(miao)干(gan)涉(she)(she)(she)技(ji)(ji)術測(ce)量(liang)光(guang)(guang)(guang)線通(tong)過靶(ba)(ba)丸(wan)殼(ke)(ke)(ke)(ke)層(ceng)(ceng)(ceng)后的光(guang)(guang)(guang)程增量(liang)，二者(zhe)聯(lian)立即可求得靶(ba)(ba)丸(wan)折射(she)率和(he)(he)厚(hou)度(du)數據(ju)。湖(hu)南防水膜厚(hou)儀白光(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)(she)(she)膜厚(hou)測(ce)量(liang)技(ji)(ji)術可以實(shi)(shi)現對(dui)薄膜的快速測(ce)量(liang)和(he)(he)分析(xi)。

確定靶(ba)丸折(zhe)射(she)率及厚(hou)度(du)(du)的(de)算法(fa)(fa)，由于干涉光(guang)(guang)譜(pu)信(xin)號(hao)與膜的(de)光(guang)(guang)參量直接相(xiang)關(guan)，這里主要(yao)(yao)考(kao)慮光(guang)(guang)譜(pu)分析(xi)的(de)方(fang)法(fa)(fa)根(gen)據(ju)(ju)(ju)測量膜的(de)反射(she)或透射(she)光(guang)(guang)譜(pu)進行分析(xi)計(ji)算，可獲(huo)得(de)(de)(de)膜的(de)厚(hou)度(du)(du)、折(zhe)射(she)率等(deng)參數。根(gen)據(ju)(ju)(ju)光(guang)(guang)譜(pu)信(xin)號(hao)分析(xi)計(ji)算膜折(zhe)射(she)率及厚(hou)度(du)(du)的(de)方(fang)法(fa)(fa)主要(yao)(yao)有(you)極值(zhi)(zhi)(zhi)法(fa)(fa)和包絡(luo)法(fa)(fa)、全光(guang)(guang)譜(pu)擬合法(fa)(fa)。極值(zhi)(zhi)(zhi)法(fa)(fa)測量膜厚(hou)度(du)(du)主要(yao)(yao)是根(gen)據(ju)(ju)(ju)薄(bo)膜反射(she)或透射(she)光(guang)(guang)譜(pu)曲線上的(de)波峰(feng)的(de)位置(zhi)來計(ji)算，對于弱(ruo)色(se)(se)散介質(zhi)，折(zhe)射(she)率為(wei)恒定值(zhi)(zhi)(zhi)，根(gen)據(ju)(ju)(ju)兩個或兩個以(yi)上的(de)極大值(zhi)(zhi)(zhi)點的(de)位置(zhi)，求(qiu)(qiu)得(de)(de)(de)膜的(de)光(guang)(guang)學(xue)厚(hou)度(du)(du)，若已知膜折(zhe)射(she)率即(ji)可求(qiu)(qiu)解(jie)膜的(de)厚(hou)度(du)(du)；對于強色(se)(se)散介質(zhi)，首先利用極值(zhi)(zhi)(zhi)點求(qiu)(qiu)出膜厚(hou)度(du)(du)的(de)初(chu)始值(zhi)(zhi)(zhi)。薄(bo)膜厚(hou)度(du)(du)是一恒定不變值(zhi)(zhi)(zhi)，可根(gen)據(ju)(ju)(ju)極大值(zhi)(zhi)(zhi)點位置(zhi)的(de)光(guang)(guang)學(xue)厚(hou)度(du)(du)關(guan)系式(shi)獲(huo)得(de)(de)(de)入(ru)射(she)波長(chang)(chang)和折(zhe)射(she)率的(de)對應關(guan)系，再依據(ju)(ju)(ju)薄(bo)膜材質(zhi)的(de)色(se)(se)散特(te)性，引入(ru)合適的(de)色(se)(se)散模(mo)型(xing)，常(chang)用的(de)色(se)(se)散模(mo)型(xing)有(you)cauchy模(mo)型(xing)、Selimeier模(mo)型(xing)、Lorenz模(mo)型(xing)等(deng)，利用折(zhe)射(she)率與入(ru)射(she)波長(chang)(chang)的(de)關(guan)系式(shi)，通(tong)過二乘法(fa)(fa)擬合得(de)(de)(de)到(dao)色(se)(se)散模(mo)型(xing)的(de)系數，即(ji)可解(jie)得(de)(de)(de)任意入(ru)射(she)波長(chang)(chang)下的(de)折(zhe)射(she)率。

目前，應用的顯(xian)微干涉方式主要有(you)Mirau顯(xian)微干涉和Michelson顯(xian)微干涉兩張(zhang)方式。如圖2-5(a)所示Mirau型顯(xian)微干涉結(jie)構，在該結(jie)構中物鏡和被測(ce)(ce)樣(yang)品之間有(you)兩塊(kuai)平板(ban)(ban)，一個是(shi)涂覆有(you)高反(fan)射膜的平板(ban)(ban)作(zuo)為參考鏡，另(ling)一塊(kuai)涂覆半透半反(fan)射膜的平板(ban)(ban)作(zuo)為分光棱鏡，由于參考鏡位于物鏡和被測(ce)(ce)樣(yang)品之間，從而(er)使(shi)物鏡外殼更加緊湊，工(gong)作(zuo)距離相對而(er)言短一些，其倍(bei)率一般為10-50倍(bei)，Mirau顯(xian)微干涉物鏡參考端使(shi)用與測(ce)(ce)量端相同顯(xian)微物鏡，因此沒有(you)額(e)外的光程(cheng)差。白光干涉膜厚(hou)測(ce)(ce)量技術可以應用于半導體制造中的薄膜厚(hou)度控制。

干(gan)(gan)涉(she)(she)法作(zuo)為面(mian)掃描方式可以一次性對薄膜局域內的(de)厚(hou)度進(jin)行解算，適用于對面(mian)型整體(ti)形貌特征要求(qiu)較高的(de)測(ce)量(liang)(liang)對象。干(gan)(gan)涉(she)(she)法算法在于相位信息的(de)提(ti)取，借助多種(zhong)復合算法通常可以達到納(na)米級的(de)測(ce)量(liang)(liang)準(zhun)確度。然而主動干(gan)(gan)涉(she)(she)法對條紋(wen)穩定性不(bu)佳，光學元件表面(mian)的(de)不(bu)清潔、光照度不(bu)均(jun)勻、光源(yuan)不(bu)穩定、外界氣(qi)流震(zhen)動干(gan)(gan)擾等因(yin)素均(jun)可能影響干(gan)(gan)涉(she)(she)圖(tu)的(de)完(wan)整性[39]，使(shi)干(gan)(gan)涉(she)(she)圖(tu)樣(yang)中(zhong)包含噪聲和部(bu)分(fen)區域的(de)陰影，給后(hou)期處理帶來困(kun)難。除此之外，干(gan)(gan)涉(she)(she)法系(xi)統(tong)精度的(de)來源(yuan)——精密(mi)移動及定位部(bu)件也增(zeng)加了系(xi)統(tong)的(de)成本，高精度的(de)干(gan)(gan)涉(she)(she)儀往往較為昂貴。白(bai)光干(gan)(gan)涉(she)(she)膜厚(hou)測(ce)量(liang)(liang)技術可以對薄膜的(de)厚(hou)度、反射(she)率、折射(she)率等光學參(can)數進(jin)行測(ce)量(liang)(liang)。有哪些膜厚(hou)儀大概(gai)價(jia)格(ge)多少(shao)

白(bai)光干(gan)涉膜(mo)厚(hou)測(ce)量技術可以通過(guo)對(dui)干(gan)涉曲線的(de)分析實現對(dui)薄膜(mo)的(de)厚(hou)度測(ce)量。高精度膜(mo)厚(hou)儀銷售價(jia)格

干(gan)(gan)涉(she)法(fa)與(yu)分光(guang)光(guang)度(du)法(fa)都是利用相干(gan)(gan)光(guang)形成(cheng)等厚(hou)(hou)干(gan)(gan)涉(she)條(tiao)紋的原(yuan)理(li)來確定(ding)薄膜厚(hou)(hou)度(du)和(he)折(zhe)射率，然(ran)而(er)與(yu)薄膜自發產生的等傾干(gan)(gan)涉(she)不同，干(gan)(gan)涉(she)法(fa)是通過設置(zhi)參(can)考光(guang)路，形成(cheng)與(yu)測(ce)(ce)(ce)量(liang)光(guang)路間的干(gan)(gan)涉(she)條(tiao)紋，因此其(qi)相位信息包含兩個部(bu)分，分別(bie)是由(you)參(can)考平(ping)(ping)面和(he)測(ce)(ce)(ce)量(liang)平(ping)(ping)面間掃描(miao)高度(du)引起(qi)的附加相位和(he)由(you)透明薄膜內部(bu)多次(ci)反射引起(qi)的膜厚(hou)(hou)相位。干(gan)(gan)涉(she)法(fa)測(ce)(ce)(ce)量(liang)光(guang)路使用面陣(zhen)CCD接收(shou)參(can)考平(ping)(ping)面和(he)測(ce)(ce)(ce)量(liang)平(ping)(ping)面間相干(gan)(gan)波面的干(gan)(gan)涉(she)光(guang)強(qiang)分布(bu)，不同于以上三種點測(ce)(ce)(ce)量(liang)方式(shi)，可一次(ci)性生成(cheng)薄膜待測(ce)(ce)(ce)區域的表面形貌信息，但同時(shi)由(you)于存在大量(liang)軸向(xiang)掃描(miao)和(he)數據(ju)解算，完成(cheng)單(dan)次(ci)測(ce)(ce)(ce)量(liang)的時(shi)間相對較(jiao)長(chang)。高精(jing)度(du)膜厚(hou)(hou)儀銷售(shou)價格

本(ben)文(wen)來自貴(gui)州鑫諾威環保設備有(you)限公司(si)：//fsstkd.cn/Article/45f599949.html