與激光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源相比以白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)的(de)(de)寬(kuan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源由(you)于具有短相干(gan)長度(du)(du)(du)的(de)(de)特點(dian)使得(de)兩(liang)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束只(zhi)有在光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)極小(xiao)的(de)(de)情況下(xia)才能發生(sheng)干(gan)涉(she)(she)因此不(bu)會產(chan)生(sheng)干(gan)擾(rao)條紋。同時由(you)于白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)(she)產(chan)生(sheng)的(de)(de)干(gan)涉(she)(she)條紋具有明(ming)(ming)顯的(de)(de)零光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)位置避免(mian)了干(gan)涉(she)(she)級次不(bu)確定(ding)的(de)(de)問題(ti)。本文以白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)(she)原理(li)(li)(li)為(wei)理(li)(li)(li)論基礎對(dui)單(dan)層(ceng)透明(ming)(ming)薄(bo)(bo)膜(mo)厚度(du)(du)(du)測(ce)量(liang)(liang)(liang)尤(you)其對(dui)厚度(du)(du)(du)小(xiao)于光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源相干(gan)長度(du)(du)(du)的(de)(de)薄(bo)(bo)膜(mo)厚度(du)(du)(du)測(ce)量(liang)(liang)(liang)進行了研究。首先(xian)從白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)(she)測(ce)量(liang)(liang)(liang)薄(bo)(bo)膜(mo)厚度(du)(du)(du)的(de)(de)原理(li)(li)(li)出發、分(fen)別詳細闡述了白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)(she)原理(li)(li)(li)和薄(bo)(bo)膜(mo)測(ce)厚原理(li)(li)(li)。接著在金相顯微鏡的(de)(de)基礎上構(gou)建了型垂(chui)直白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)掃描系統(tong)作為(wei)實(shi)驗中測(ce)試薄(bo)(bo)膜(mo)厚度(du)(du)(du)的(de)(de)儀器并利用(yong)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)(she)原理(li)(li)(li)對(dui)的(de)(de)位移量(liang)(liang)(liang)進行了標定(ding)。白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)(she)膜(mo)厚測(ce)量(liang)(liang)(liang)技術可以通過對(dui)干(gan)涉(she)(she)曲線的(de)(de)分(fen)析實(shi)現對(dui)薄(bo)(bo)膜(mo)的(de)(de)厚度(du)(du)(du)分(fen)布的(de)(de)測(ce)量(liang)(liang)(liang)和分(fen)析。山東(dong)膜(mo)厚儀成本價

靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)折射(she)(she)率(lv)、厚(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)及(ji)其(qi)分(fen)布(bu)(bu)(bu)參(can)數(shu)是激光慣性約束(shu)聚變（ICF）物(wu)理實驗中非(fei)常關(guan)鍵的(de)(de)參(can)數(shu)，精(jing)(jing)密測(ce)量(liang)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)折射(she)(she)率(lv)、厚(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)及(ji)其(qi)分(fen)布(bu)(bu)(bu)對(dui)ICF精(jing)(jing)密物(wu)理實驗研究具有非(fei)常重要(yao)的(de)(de)意(yi)義。由于靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)尺寸微小（亞毫米量(liang)級）、結構(gou)特殊(shu)（球形結構(gou)）、測(ce)量(liang)精(jing)(jing)度(du)(du)要(yao)求(qiu)高，如何實現靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)折射(she)(she)率(lv)及(ji)其(qi)厚(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)分(fen)布(bu)(bu)(bu)的(de)(de)精(jing)(jing)密測(ce)量(liang)是靶(ba)(ba)參(can)數(shu)測(ce)量(liang)技(ji)術(shu)(shu)研究中重要(yao)的(de)(de)研究內容(rong)。本(ben)論文(wen)針(zhen)對(dui)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)折射(she)(she)率(lv)及(ji)厚(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)分(fen)布(bu)(bu)(bu)的(de)(de)精(jing)(jing)密測(ce)量(liang)需求(qiu)，開(kai)展(zhan)了基(ji)于白(bai)光干(gan)涉技(ji)術(shu)(shu)的(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)折射(she)(she)率(lv)及(ji)厚(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)分(fen)布(bu)(bu)(bu)測(ce)量(liang)技(ji)術(shu)(shu)研究。大連膜厚(hou)(hou)(hou)(hou)儀生產廠家(jia)哪家(jia)好白(bai)光干(gan)涉膜厚(hou)(hou)(hou)(hou)測(ce)量(liang)技(ji)術(shu)(shu)可以實現對(dui)薄膜的(de)(de)在線(xian)檢(jian)測(ce)和控制(zhi)。

干(gan)(gan)(gan)涉(she)法(fa)與(yu)分(fen)(fen)光(guang)(guang)光(guang)(guang)度法(fa)都是(shi)利(li)用相(xiang)干(gan)(gan)(gan)光(guang)(guang)形(xing)成(cheng)等厚干(gan)(gan)(gan)涉(she)條紋的(de)(de)原理來確定薄(bo)膜厚度和(he)(he)(he)折(zhe)射率，然而與(yu)薄(bo)膜自發產生(sheng)的(de)(de)等傾干(gan)(gan)(gan)涉(she)不(bu)同，干(gan)(gan)(gan)涉(she)法(fa)是(shi)通過設置參考(kao)光(guang)(guang)路，形(xing)成(cheng)與(yu)測(ce)量(liang)光(guang)(guang)路間的(de)(de)干(gan)(gan)(gan)涉(she)條紋，因(yin)此其相(xiang)位(wei)(wei)信息包含兩個(ge)部分(fen)(fen)，分(fen)(fen)別是(shi)由參考(kao)平面(mian)(mian)和(he)(he)(he)測(ce)量(liang)平面(mian)(mian)間掃(sao)描(miao)高度引(yin)起的(de)(de)附加相(xiang)位(wei)(wei)和(he)(he)(he)由透明薄(bo)膜內部多次(ci)反射引(yin)起的(de)(de)膜厚相(xiang)位(wei)(wei)。干(gan)(gan)(gan)涉(she)法(fa)測(ce)量(liang)光(guang)(guang)路使用面(mian)(mian)陣CCD接收參考(kao)平面(mian)(mian)和(he)(he)(he)測(ce)量(liang)平面(mian)(mian)間相(xiang)干(gan)(gan)(gan)波面(mian)(mian)的(de)(de)干(gan)(gan)(gan)涉(she)光(guang)(guang)強分(fen)(fen)布，不(bu)同于以上三(san)種點測(ce)量(liang)方(fang)式，可(ke)一次(ci)性生(sheng)成(cheng)薄(bo)膜待測(ce)區域的(de)(de)表面(mian)(mian)形(xing)貌信息，但同時(shi)由于存(cun)在大(da)量(liang)軸(zhou)向掃(sao)描(miao)和(he)(he)(he)數據解算，完成(cheng)單次(ci)測(ce)量(liang)的(de)(de)時(shi)間相(xiang)對較(jiao)長(chang)。

白(bai)光(guang)(guang)干涉(she)(she)(she)(she)頻(pin)域(yu)解(jie)調(diao)(diao)(diao)顧名思義是(shi)(shi)(shi)(shi)在(zai)(zai)頻(pin)域(yu)分(fen)(fen)(fen)(fen)析解(jie)調(diao)(diao)(diao)信(xin)號(hao)，測(ce)(ce)(ce)量裝置與時(shi)域(yu)解(jie)調(diao)(diao)(diao)裝置幾乎相同，只(zhi)需把光(guang)(guang)強測(ce)(ce)(ce)量裝置換為光(guang)(guang)譜(pu)(pu)儀(yi)或(huo)者是(shi)(shi)(shi)(shi)CCD，接收(shou)到的(de)(de)(de)(de)(de)信(xin)號(hao)是(shi)(shi)(shi)(shi)光(guang)(guang)強隨著光(guang)(guang)波(bo)長(chang)的(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)(fen)(fen)(fen)布。由于(yu)時(shi)域(yu)解(jie)調(diao)(diao)(diao)中接收(shou)到的(de)(de)(de)(de)(de)信(xin)號(hao)是(shi)(shi)(shi)(shi)一定(ding)范圍內所(suo)有波(bo)長(chang)的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)強疊(die)(die)加，因此將頻(pin)譜(pu)(pu)信(xin)號(hao)中各個波(bo)長(chang)的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)強疊(die)(die)加，即可得到與它對應的(de)(de)(de)(de)(de)時(shi)域(yu)接收(shou)信(xin)號(hao)。由此可見，頻(pin)域(yu)的(de)(de)(de)(de)(de)白(bai)光(guang)(guang)干涉(she)(she)(she)(she)條(tiao)(tiao)紋不僅包含了(le)時(shi)域(yu)白(bai)光(guang)(guang)干涉(she)(she)(she)(she)條(tiao)(tiao)紋的(de)(de)(de)(de)(de)所(suo)有信(xin)息(xi)，還包含了(le)時(shi)域(yu)干涉(she)(she)(she)(she)條(tiao)(tiao)紋中沒(mei)有的(de)(de)(de)(de)(de)波(bo)長(chang)信(xin)息(xi)。在(zai)(zai)頻(pin)域(yu)干涉(she)(she)(she)(she)中，當兩束相干光(guang)(guang)的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)程差遠大(da)(da)于(yu)光(guang)(guang)源(yuan)的(de)(de)(de)(de)(de)相干長(chang)度時(shi)，仍可以在(zai)(zai)光(guang)(guang)譜(pu)(pu)儀(yi)上(shang)觀察到頻(pin)域(yu)干涉(she)(she)(she)(she)條(tiao)(tiao)紋。這是(shi)(shi)(shi)(shi)由于(yu)光(guang)(guang)譜(pu)(pu)儀(yi)內部(bu)的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)柵具有分(fen)(fen)(fen)(fen)光(guang)(guang)作用(yong)(yong)，能(neng)夠將寬譜(pu)(pu)光(guang)(guang)變成窄(zhai)帶(dai)光(guang)(guang)譜(pu)(pu)，從而增加了(le)光(guang)(guang)譜(pu)(pu)的(de)(de)(de)(de)(de)相干長(chang)度。這一解(jie)調(diao)(diao)(diao)技術(shu)的(de)(de)(de)(de)(de)優點就(jiu)是(shi)(shi)(shi)(shi)在(zai)(zai)整個測(ce)(ce)(ce)量系統(tong)中沒(mei)有使用(yong)(yong)機械掃描部(bu)件，從而在(zai)(zai)測(ce)(ce)(ce)量的(de)(de)(de)(de)(de)穩定(ding)性和可靠性上(shang)得到很大(da)(da)的(de)(de)(de)(de)(de)提高。常見的(de)(de)(de)(de)(de)頻(pin)域(yu)解(jie)調(diao)(diao)(diao)方法(fa)有峰峰值檢測(ce)(ce)(ce)法(fa)、傅(fu)里葉(xie)解(jie)調(diao)(diao)(diao)法(fa)以及傅(fu)里葉(xie)變換白(bai)光(guang)(guang)干涉(she)(she)(she)(she)解(jie)調(diao)(diao)(diao)法(fa)等。白(bai)光(guang)(guang)干涉(she)(she)(she)(she)膜厚測(ce)(ce)(ce)量技術(shu)可以通(tong)過對干涉(she)(she)(she)(she)圖像的(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)(fen)(fen)(fen)析實現對薄膜的(de)(de)(de)(de)(de)表面(mian)和內部(bu)結構的(de)(de)(de)(de)(de)聯(lian)合測(ce)(ce)(ce)量和分(fen)(fen)(fen)(fen)析。

論(lun)文主要以半導體鍺(zang)和貴金(jin)屬金(jin)兩(liang)種材料(liao)為(wei)對象，研(yan)究(jiu)了白光(guang)干涉法、表(biao)面(mian)等(deng)(deng)離子體共振法和外差干涉法實現納(na)米級薄(bo)膜(mo)厚度(du)準(zhun)確測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)可(ke)行性(xing)。由于不同(tong)材料(liao)薄(bo)膜(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)特性(xing)不同(tong)，所適用的(de)(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)(liang)方法也(ye)不同(tong)。半導體鍺(zang)膜(mo)具有(you)折射(she)率高(gao)，在(zai)通信波段（1550nm附近）不透明的(de)(de)(de)(de)(de)特點，選(xuan)擇采用白光(guang)干涉的(de)(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)(liang)方法；而(er)厚度(du)更(geng)薄(bo)的(de)(de)(de)(de)(de)金(jin)膜(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)折射(she)率為(wei)復數(shu)，且能激發的(de)(de)(de)(de)(de)表(biao)面(mian)等(deng)(deng)離子體效應，因而(er)可(ke)借助基于表(biao)面(mian)等(deng)(deng)離子體共振的(de)(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)(liang)方法；為(wei)了進一步改善(shan)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)精(jing)度(du)，論(lun)文還研(yan)究(jiu)了外差干涉測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)(liang)法，通過引入高(gao)精(jing)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)相(xiang)位解調手段，檢(jian)測(ce)(ce)P光(guang)與S光(guang)之(zhi)間(jian)的(de)(de)(de)(de)(de)相(xiang)位差提升厚度(du)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)精(jing)度(du)。白光(guang)干涉膜(mo)厚測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)(liang)技術可(ke)以對薄(bo)膜(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)表(biao)面(mian)和內部(bu)進行聯合測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)(liang)和分(fen)析。張家界國內膜(mo)厚儀

白光(guang)干涉膜(mo)(mo)厚測(ce)量(liang)技術可以應用于光(guang)學傳感器中(zhong)的薄膜(mo)(mo)厚度(du)測(ce)量(liang)。山東膜(mo)(mo)厚儀成本價

白光(guang)掃(sao)描(miao)(miao)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)法(fa)能(neng)(neng)免除色光(guang)相移干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)術測(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de)局(ju)限性。白光(guang)掃(sao)描(miao)(miao)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)法(fa)采(cai)用(yong)白光(guang)作為(wei)光(guang)源，白光(guang)作為(wei)一(yi)種寬光(guang)譜的(de)(de)(de)(de)光(guang)源，相干(gan)(gan)(gan)(gan)長度(du)較短，因此發生干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)的(de)(de)(de)(de)位置只能(neng)(neng)在很(hen)小的(de)(de)(de)(de)空間范圍內。而(er)且在白光(guang)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)時(shi)，有(you)一(yi)個確(que)切的(de)(de)(de)(de)零(ling)點位置。測(ce)量(liang)光(guang)和參考光(guang)的(de)(de)(de)(de)光(guang)程(cheng)相等時(shi)，所(suo)有(you)波段的(de)(de)(de)(de)光(guang)都會發生相長干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)，這時(shi)就(jiu)能(neng)(neng)觀測(ce)到(dao)有(you)一(yi)個很(hen)明亮的(de)(de)(de)(de)零(ling)級條(tiao)紋(wen)，同時(shi)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)信號也出(chu)現最大(da)值，通過(guo)(guo)分(fen)析這個干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)信號，就(jiu)能(neng)(neng)得到(dao)表面上對應數據點的(de)(de)(de)(de)相對高度(du)，從而(er)得到(dao)被測(ce)物(wu)體的(de)(de)(de)(de)幾何形(xing)貌。白光(guang)掃(sao)描(miao)(miao)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)術是通過(guo)(guo)測(ce)量(liang)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)條(tiao)紋(wen)來完成(cheng)的(de)(de)(de)(de)，而(er)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)條(tiao)紋(wen)的(de)(de)(de)(de)清晰度(du)直接(jie)影響測(ce)試精度(du)。因此，為(wei)了提(ti)高精度(du)，就(jiu)需要更為(wei)復雜的(de)(de)(de)(de)光(guang)學系統，這使得條(tiao)紋(wen)的(de)(de)(de)(de)測(ce)量(liang)變成(cheng)一(yi)項費力又費時(shi)的(de)(de)(de)(de)工(gong)作。山東膜厚儀成(cheng)本價

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